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第135章 闪耀的光刻之光（第1页）

1980年代，那是一个充满希望与挑战的时代，改革开放的春风吹遍了中国大地，各行各业都在蓬勃发展。

在科技领域，一场无声的战役也悄然打响，而贾东旭和他的团队，就站在了这场战役的最前线，他们的目标只有一个——在光刻机领域实现重大突破，让中国在全球半导体产业中拥有一席之地。

贾东旭还记得，1985年团队刚刚组建的时候，条件十分艰苦。

那时候，国内对于光刻机的研究几乎是一片空白，他们没有先进的设备，没有成熟的技术，甚至连参考资料都少得可怜。

但是，贾东旭和他的伙伴们没有被困难吓倒，他们怀揣着科技报国的梦想，一头扎进了光刻机的研发工作中。

“兄弟们，咱们虽然起点低，但是只要肯努力，就没有克服不了的困难。

这光刻机，咱们不仅要做，还要做到最好！”

贾东旭在团队成立大会上的这番话，就像一把火，点燃了大家心中的热情。

研发之路充满了艰辛。

团队成员们每天都在实验室里忙碌到深夜，无数次的失败，无数次的重新再来。

为了实现技术突破，他们四处请教专家，查阅各种资料，不放过任何一个可能的技术方向。

1986年，团队争取到了国家科委的专项经费1亿元，这无疑是雪中送炭，让他们有了更充足的资金来购买设备、开展实验。

1986-1987年，团队成功研发出华光hG-1原型机，虽然这台原型机还存在很多不足，但是它的诞生标志着团队迈出了坚实的第一步。

随后的几年里，他们不断优化设计，提高性能，先后推出了华光hG-2和华光hG-3，在国内市场逐渐崭露头角。

时间来到1990年，这是一个具有里程碑意义的年份。

贾东旭团队成功实现了1.0μm工艺，比当时在光刻机领域处于领先地位的ASmL还要早5年。

这个消息就像一颗重磅炸弹，在全球半导体行业引起了轰动。

“我们做到了！”

当实验结果出来的那一刻，贾东旭激动得热泪盈眶，团队成员们也都欢呼雀跃。

为了实现这一突破，团队成员们付出了太多的努力。

负责光学系统设计的小王，为了优化镜头的分辨率，连续几个月都在实验室里调试参数，眼睛熬得通红。

“那时候，压力真的很大，但是一想到我们要做出超越国际水平的光刻机，就觉得一切都值得了。”

小王回忆起那段时光，感慨万分。

1990年，除了在技术上取得重大突破，团队在国际市场上也收获颇丰。

他们成功出口50台光刻机至东欧市场。

这些光刻机就像一张张名片，向世界展示着中国的科技实力。

“当时，东欧的客户对我们的产品非常感兴趣，他们没想到中国能制造出这么先进的光刻机。”

负责国际市场拓展的小赵说。